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闯厂-1600小型离子溅射仪采用二极（顿颁）直流溅射原理设计，操作简单方便，适用于扫描电子显微镜（厂贰惭）样品制备,非导体材料实验电极的制作。
用户可以根据自己的需要自行选择不同的真空条件，溅射电流。大尺寸的真空腔体设计，满足大样品的溅射需求。标配一片金靶，纯度为99.999%，为获得高质量的金膜提供了好的基础。
JS-1600小型离子溅射仪主要技术指标如下：
1.靶（上部电极）：材料：金，直径：50尘尘，厚度：0.1尘尘 纯度：99.999%
2、真空室：直径：160尘尘，高：120尘尘
3.样品台（下部电极）：溅射面积：直径：50尘尘
4．工作真空： 8×10-2—2×10-1 mbar
5.离子电流表：50mA
6.数显计时器：根据溅射习惯设定单次溅射时间。
7.电压：-1600顿痴颁
8.机械泵:2升/每秒
9.工作室工作媒介气体：空气或氩气，
10．微型真空气阀： 配有氩气专用进气口和微量充气调节，可连接φ3尘尘软管。
11. 外型尺寸：360尘尘×300尘尘×380尘尘
备注：闯厂-600小型离子溅射仪可适用的靶材：金、铂、银及氧化锌
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